Просмотр запроса №28563
Здравствуйте!
Помогите, пожалуйста, найти литературу для написания реферата на тему "Мягкая литография. Наноимпринтная литография". Иностранные источники приветствуются.
Спасибо!
Помогите, пожалуйста, найти литературу для написания реферата на тему "Мягкая литография. Наноимпринтная литография". Иностранные источники приветствуются.
Спасибо!
Ответ
[2016-02-20 15:34:36] :
Здравствуйте. На Ваш запрос предлагаем следующие издания (источник: ЭК РНБ, НТЛ ВИНИТИ, ПС Google):
1. Валиев К. А. Физика субмикронной литографии / К. А. Валиев. – М. : Наука, 1990. – 528 с. : ил. – Библиогр. в конце глав. Шифр РНБ: 90-5/5257
2. Lai K. L. Soft imprint lithography using swelling/deswelling characteristics of a polymer mold and a resist induced by a poor solvent / K. L. Lai, I. C. Leu, M. H. Hon // J. micromech. a. microeng. – 2009. – Vol. 19, N 3. – P. 037001/1-037001/5.
3. Mazzeo A. D. Centrifugal casting of microfluidic components with PDMS / A. D. Mazzeo, D. E. Hardt // Trans. ASME. J. micro- a. nano-manuf. – 2013. – Vol. 1, N 2. – С. 021001/1-021001/8. – Bibliogr.: 33 ref.
4. Microlithography, molecular imprinting /with contributions by H. Ito [et al.]. – Berlin [etc.] : Springer, cop. 2005. – VIII, 276 с. : ил. – (Advances in polymer science ; 172 [0065-3195]). – Библиогр. в конце ст.. – Указ.: с. 247-276. Шифр РНБ: Ик 2007-7/3330
5. Simonen J. Applied diffractive optics with electron beam lithography / J. Simonen. – Joensuu : Joensuun yliop., 2003. – VI, 82 c. : ил. – (Dissertations / Univ. of Joensuu. Dep. of physics ; 37 [1458-5332]). – Библиогр.: 112 назв. Шифр РНБ: P7/2853
6. Cтеклянно-полимерные микрофлюидные чипы для электрофоретического разделения биомолекул / А. Л. Буляница, Я. С. Посмитная, Г. Е. Рудницкая и др. // Науч. приборостроение. – 2014. – Т. 24, № 4. – С. 67-76. – Библиогр.: 17 назв. ; То же [Электронный ресурс] URL: http://iairas.ru/mag/2014/full4/Art9.pdf (20.02.2016).
7. Stepanov A. E. Numerical study of radiation of plasma composed of different elements in application to development of EUV light source for lithography /A. E. Stepanov, N. V. Suetin, V. C Roerich. – [М.] : ЦНИИатоминформ, 2003. – 16 с. : ил. – (Препринт ТРИНИТИ / Гос. науч. центр Рос. Федерации Троиц. ин-т инновац. и термоядер. исслед. ; 102-A). – Библиогр.: 19 назв. Шифр РНБ: Ик 2003-4/250
8. Установка для мягкой рентгеновской литографии на ВЭПП-4М / А. Н. Генцелев, Б. Г. Гольденберг, А. Д. Николенко и др. // Поверхность. Рентген., синхротрон. и нейтрон. исслед. – 2013. – № 7.— С. 96-102.
9. Химическое паттернирование пленок Ленгмюра-Блоджетт методом мягкой гелевой литографии / А. А. Еленский, Д. С. Турыгин, В. В. Арсланов, М. А. Калинина // Форсайт: наука и технологии в 2025 году. – 2009. – С. 66 -71. – Библиогр.: 29 назв. ; То же [Электронный ресурс] URL: http://www.nanorf.ru/Attachment.aspx?Id=5208&origin=publication_detail#page=68 (20.02.2016).
10. Чабанов А. УФ-наноимпринтная фотолитография с мягкими штампами // Наноиндустрия. – 2010. – № 2. – С. 8-10.
Рекомендуем ответы на запросы Архива: № 27822 (ВСС) и № 24896 (КОРУНБ).
За дополнительной консультацией Вы можете обратиться к дежурному библиографу группы техники, а для работы с подписными иностранными изданиями – в Интернет-класс РНБ.
1. Валиев К. А. Физика субмикронной литографии / К. А. Валиев. – М. : Наука, 1990. – 528 с. : ил. – Библиогр. в конце глав. Шифр РНБ: 90-5/5257
2. Lai K. L. Soft imprint lithography using swelling/deswelling characteristics of a polymer mold and a resist induced by a poor solvent / K. L. Lai, I. C. Leu, M. H. Hon // J. micromech. a. microeng. – 2009. – Vol. 19, N 3. – P. 037001/1-037001/5.
3. Mazzeo A. D. Centrifugal casting of microfluidic components with PDMS / A. D. Mazzeo, D. E. Hardt // Trans. ASME. J. micro- a. nano-manuf. – 2013. – Vol. 1, N 2. – С. 021001/1-021001/8. – Bibliogr.: 33 ref.
4. Microlithography, molecular imprinting /with contributions by H. Ito [et al.]. – Berlin [etc.] : Springer, cop. 2005. – VIII, 276 с. : ил. – (Advances in polymer science ; 172 [0065-3195]). – Библиогр. в конце ст.. – Указ.: с. 247-276. Шифр РНБ: Ик 2007-7/3330
5. Simonen J. Applied diffractive optics with electron beam lithography / J. Simonen. – Joensuu : Joensuun yliop., 2003. – VI, 82 c. : ил. – (Dissertations / Univ. of Joensuu. Dep. of physics ; 37 [1458-5332]). – Библиогр.: 112 назв. Шифр РНБ: P7/2853
6. Cтеклянно-полимерные микрофлюидные чипы для электрофоретического разделения биомолекул / А. Л. Буляница, Я. С. Посмитная, Г. Е. Рудницкая и др. // Науч. приборостроение. – 2014. – Т. 24, № 4. – С. 67-76. – Библиогр.: 17 назв. ; То же [Электронный ресурс] URL: http://iairas.ru/mag/2014/full4/Art9.pdf (20.02.2016).
7. Stepanov A. E. Numerical study of radiation of plasma composed of different elements in application to development of EUV light source for lithography /A. E. Stepanov, N. V. Suetin, V. C Roerich. – [М.] : ЦНИИатоминформ, 2003. – 16 с. : ил. – (Препринт ТРИНИТИ / Гос. науч. центр Рос. Федерации Троиц. ин-т инновац. и термоядер. исслед. ; 102-A). – Библиогр.: 19 назв. Шифр РНБ: Ик 2003-4/250
8. Установка для мягкой рентгеновской литографии на ВЭПП-4М / А. Н. Генцелев, Б. Г. Гольденберг, А. Д. Николенко и др. // Поверхность. Рентген., синхротрон. и нейтрон. исслед. – 2013. – № 7.— С. 96-102.
9. Химическое паттернирование пленок Ленгмюра-Блоджетт методом мягкой гелевой литографии / А. А. Еленский, Д. С. Турыгин, В. В. Арсланов, М. А. Калинина // Форсайт: наука и технологии в 2025 году. – 2009. – С. 66 -71. – Библиогр.: 29 назв. ; То же [Электронный ресурс] URL: http://www.nanorf.ru/Attachment.aspx?Id=5208&origin=publication_detail#page=68 (20.02.2016).
10. Чабанов А. УФ-наноимпринтная фотолитография с мягкими штампами // Наноиндустрия. – 2010. – № 2. – С. 8-10.
Рекомендуем ответы на запросы Архива: № 27822 (ВСС) и № 24896 (КОРУНБ).
За дополнительной консультацией Вы можете обратиться к дежурному библиографу группы техники, а для работы с подписными иностранными изданиями – в Интернет-класс РНБ.