Здравствуйте. На Ваш запрос предлагаем следующие издания (источник: ЭК РНБ, НТЛ ВИНИТИ, ПС Google):
1. Валиев К. А. Физика субмикронной литографии / К. А. Валиев. – М. : Наука, 1990. – 528 с. : ил. – Библиогр. в конце глав. Шифр РНБ: 90-5/5257
2. Lai K. L. Soft imprint lithography using swelling/deswelling characteristics of a polymer mold and a resist induced by a poor solvent / K. L. Lai, I. C. Leu, M. H. Hon // J. micromech. a. microeng. – 2009. – Vol. 19, N 3. – P. 037001/1-037001/5.
3. Mazzeo A. D. Centrifugal casting of microfluidic components with PDMS / A. D. Mazzeo, D. E. Hardt // Trans. ASME. J. micro- a. nano-manuf. – 2013. – Vol. 1, N 2. – С. 021001/1-021001/8. – Bibliogr.: 33 ref.
4. Microlithography, molecular imprinting /with contributions by H. Ito [et al.]. – Berlin [etc.] : Springer, cop. 2005. – VIII, 276 с. : ил. – (Advances in polymer science ; 172 [0065-3195]). – Библиогр. в конце ст.. – Указ.: с. 247-276. Шифр РНБ: Ик 2007-7/3330
5. Simonen J. Applied diffractive optics with electron beam lithography / J. Simonen. – Joensuu : Joensuun yliop., 2003. – VI, 82 c. : ил. – (Dissertations / Univ. of Joensuu. Dep. of physics ; 37 [1458-5332]). – Библиогр.: 112 назв. Шифр РНБ: P7/2853
6. Cтеклянно-полимерные микрофлюидные чипы для электрофоретического разделения биомолекул / А. Л. Буляница, Я. С. Посмитная, Г. Е. Рудницкая и др. // Науч. приборостроение. – 2014. – Т. 24, № 4. – С. 67-76. – Библиогр.: 17 назв. ; То же [Электронный ресурс] URL: http://iairas.ru/mag/2014/full4/Art9.pdf (20.02.2016).
7. Stepanov A. E. Numerical study of radiation of plasma composed of different elements in application to development of EUV light source for lithography /A. E. Stepanov, N. V. Suetin, V. C Roerich. – [М.] : ЦНИИатоминформ, 2003. – 16 с. : ил. – (Препринт ТРИНИТИ / Гос. науч. центр Рос. Федерации Троиц. ин-т инновац. и термоядер. исслед. ; 102-A). – Библиогр.: 19 назв. Шифр РНБ: Ик 2003-4/250
8. Установка для мягкой рентгеновской литографии на ВЭПП-4М / А. Н. Генцелев, Б. Г. Гольденберг, А. Д. Николенко и др. // Поверхность. Рентген., синхротрон. и нейтрон. исслед. – 2013. – № 7.— С. 96-102.
9. Химическое паттернирование пленок Ленгмюра-Блоджетт методом мягкой гелевой литографии / А. А. Еленский, Д. С. Турыгин, В. В. Арсланов, М. А. Калинина // Форсайт: наука и технологии в 2025 году. – 2009. – С. 66 -71. – Библиогр.: 29 назв. ; То же [Электронный ресурс] URL: http://www.nanorf.ru/Attachment.aspx?Id=5208&origin=publication_detail#page=68 (20.02.2016).
10. Чабанов А. УФ-наноимпринтная фотолитография с мягкими штампами // Наноиндустрия. – 2010. – № 2. – С. 8-10.
Рекомендуем ответы на запросы Архива: № 27822 (ВСС) и № 24896 (КОРУНБ).
За дополнительной консультацией Вы можете обратиться к дежурному библиографу группы техники, а для работы с подписными иностранными изданиями – в Интернет-класс РНБ.