Просмотр запроса №28581
Вопрос
.
Здравствуйте!
Помогите, пожалуйста, найти литературу для написания литобзора и в целом выпускной квалификационной работы бакалавра по теме "Оптимизация технологических параметров проекционной литографии при изготовлении компонентов высокочастотных электронных устройств". Особенно интересует вопрос использования антиотражающих покрытий. Иностранная литература приветствуется.
Спасибо!
Помогите, пожалуйста, найти литературу для написания литобзора и в целом выпускной квалификационной работы бакалавра по теме "Оптимизация технологических параметров проекционной литографии при изготовлении компонентов высокочастотных электронных устройств". Особенно интересует вопрос использования антиотражающих покрытий. Иностранная литература приветствуется.
Спасибо!
Ответ
[2016-02-24 20:26:15] :
Здравствуйте. Напоминаем Вам, что в рамках Виртуальной справочной службы предлагается выборочный список печатных источников (5-10 названий) и несколько электронных ссылок (без просмотра изданий DE VISU и только по одному вопросу). Также необходимо указать те иностранные языки, на которых требуется информация.
Предлагаем следующие издания (ЭК РНБ, НТЛ ВИНИТИ, ИПС Google, eLibrary) для начала Вашей работы по изучению особенностей использования антиотражающих покрытий в литографии.
1. Бобков С. Г. Проблемы перехода микроэлектроники в субстананометровую область размеров. Часть 2. Возможности наноимпринт литографии и проекционной оптической литографии / С. Г. Бобков, В. Ю. Киреев // Нано- и микросистем. техника. – 2007. – № 6. – С. 8-18.
2. Наноразмерный рельеф: от фазовых масок до антиотражающих структур на кварце и кремнии / Веревкин Ю. К., Климов А. Ю., Грибков Б. А. и др. // Квантовая электроника (Россия). – 2008. – Т. 38, № 11. – C. 1078-1082. ; То же [Электронный ресурс]. – URL: http://www.mathnet.ru/links/e7e6b22bc23a8e8e7516cf742a93dce5/qe13723.pdf (24.02.16)
3. Bottom-anti-reflective coatings (BARC) for LPLE double patterning process / Sakamoto Rikimaru, Endo Takafumi, Ho Bang-Ching et al. // Proc. SPIE. – 2010. – Vol. 7639. – Pt. 1/2. – P. 76391R/1-76391R/10. – Bibliogr.: 4 ref. ; То же [Электронный ресурс]. – URL: http://sematech.org/meetings/archives/litho/8715/poster/P-04-Sakamoto_NissanChemical.pdf (24.02.16)
4. Broadband antireflective Si nanopillar arrays produced by nanosphere lithography / Hongbo Xu, Nan Lu, Dianpeng Qi et al. // Microelectron. eng. – 2009. – Vol. 86, N 4/6. – P. 850-852. ; То же [Электронный ресурс]. – URL: https://www.researchgate.net/profile/Lifeng_Chi/publication/229385449_Broadband_antireflective_Si_nanopillar_arrays_produced_by_nanosphere_lithography/links/54b245d70cf2318f0f93f474.pdf (24.02.16)
5. Design and development of production worthy developable BARCs (DBARCs) for implant lithography / J. Cameron, J. Amara, Sung Jin Wuk et al. // Proc. SPIE. – 2010. – Vol. 7639. – Pt 1/2. – P. 6390H/1-76390H/12. – Bibliogr.: 18 ref.
6. Fabrication of antireflection nanostructures by hybrid nano-patterning lithography / Young Hun Kang, Sang Soon Oh, Young-Sung Kim, Choon-Gi Choi // Microelectron. eng. – 2010. – Vol. 87, N 2. – P. 125-128.
7. Fabrication of double-sided self-supporting antireflection-structured film by ultraviolet nanoimprint lithography / Yusof Nurhafizah Binti Abu Talip[a], Taniguchi Jun et al. // Jap. j. appl. phys. – 2014. – Vol. 53, N 6. – P. 06JK03/4-067K03/5. – Bibliogr.: 52 ref.
8. Fabrication of nanosized antireflection patterns on surface of aspheric lens substrate by nanoimprint lithography / Shin Ju-Hyeon, Choi Hak-Jong, Kim Guy-Tae et al. // Appl. phys. express. – 2013. – Vol. 6, N5. – P. 055001/1-055001/3/ – Bibliogr.: 21 ref.
9. Fabrication of size-tunable antireflective nanopillar array using hybrid nano-patterning lithography / Wu Hung-Chun, Xu XueBo, He MeiYing, et al. // Surface a. coat. technol. – 2014. – Vol. 240. – P. 413-418
10. Fabrication of sub-wavelength antireflective structures in solar cells by utilizing modified illumination and defocus techniques in optical lithography / H. L. Chen, K. T. Huang, C. H. Lin et al. // Microelectron. eng. – 2007. – Vol. 84, N 5/8. – P. 750-754.
11. Microfluidic spatial growth of vertically aligned ZnO nanostructures by soft lithography for antireflective patterning / Mehare Rupali S., Devarapalli Rami Reddy, Yenchalwar Sandeep G., Shelke Manjusha V. // Microfluid. a. nanofluid. – 2013. – Vol. 15, N 1. – P. 1-9.
12. Natural lithography nano-sphere texturing as antireflective layer on InP-based pin photodiodes / Chen Baile, Zhou Qiugui, McIntosh D. C. et al. // Electron. lett. – 2012. – Vol. 48, N 21. – P. 1340-1341. – Bibliogr.: 10 ref.
13. Understanding deviations in lithographic patterns near interfaces: Characterization of bottom anti-reflective coatings (BARC) and the BARC-resist interface / J. L. Lenhart, D. Fischer, Sambasivan Sharadha et al. // Appl. surface sci. – 2007. – Vol. 253, N9. – P. 4166-4175.
Составление полного списка литературы для Выпускной квалификационной работы бакалавра Вы можете заказать (на платной основе) в Информационно-сервисном центре РНБ (открыть ссылку) или прийти к библиографу технической литературы РНБ( Московский пр. 165, 4 этаж) на консультацию по самостоятельной работе.
Предлагаем следующие издания (ЭК РНБ, НТЛ ВИНИТИ, ИПС Google, eLibrary) для начала Вашей работы по изучению особенностей использования антиотражающих покрытий в литографии.
1. Бобков С. Г. Проблемы перехода микроэлектроники в субстананометровую область размеров. Часть 2. Возможности наноимпринт литографии и проекционной оптической литографии / С. Г. Бобков, В. Ю. Киреев // Нано- и микросистем. техника. – 2007. – № 6. – С. 8-18.
2. Наноразмерный рельеф: от фазовых масок до антиотражающих структур на кварце и кремнии / Веревкин Ю. К., Климов А. Ю., Грибков Б. А. и др. // Квантовая электроника (Россия). – 2008. – Т. 38, № 11. – C. 1078-1082. ; То же [Электронный ресурс]. – URL: http://www.mathnet.ru/links/e7e6b22bc23a8e8e7516cf742a93dce5/qe13723.pdf (24.02.16)
3. Bottom-anti-reflective coatings (BARC) for LPLE double patterning process / Sakamoto Rikimaru, Endo Takafumi, Ho Bang-Ching et al. // Proc. SPIE. – 2010. – Vol. 7639. – Pt. 1/2. – P. 76391R/1-76391R/10. – Bibliogr.: 4 ref. ; То же [Электронный ресурс]. – URL: http://sematech.org/meetings/archives/litho/8715/poster/P-04-Sakamoto_NissanChemical.pdf (24.02.16)
4. Broadband antireflective Si nanopillar arrays produced by nanosphere lithography / Hongbo Xu, Nan Lu, Dianpeng Qi et al. // Microelectron. eng. – 2009. – Vol. 86, N 4/6. – P. 850-852. ; То же [Электронный ресурс]. – URL: https://www.researchgate.net/profile/Lifeng_Chi/publication/229385449_Broadband_antireflective_Si_nanopillar_arrays_produced_by_nanosphere_lithography/links/54b245d70cf2318f0f93f474.pdf (24.02.16)
5. Design and development of production worthy developable BARCs (DBARCs) for implant lithography / J. Cameron, J. Amara, Sung Jin Wuk et al. // Proc. SPIE. – 2010. – Vol. 7639. – Pt 1/2. – P. 6390H/1-76390H/12. – Bibliogr.: 18 ref.
6. Fabrication of antireflection nanostructures by hybrid nano-patterning lithography / Young Hun Kang, Sang Soon Oh, Young-Sung Kim, Choon-Gi Choi // Microelectron. eng. – 2010. – Vol. 87, N 2. – P. 125-128.
7. Fabrication of double-sided self-supporting antireflection-structured film by ultraviolet nanoimprint lithography / Yusof Nurhafizah Binti Abu Talip[a], Taniguchi Jun et al. // Jap. j. appl. phys. – 2014. – Vol. 53, N 6. – P. 06JK03/4-067K03/5. – Bibliogr.: 52 ref.
8. Fabrication of nanosized antireflection patterns on surface of aspheric lens substrate by nanoimprint lithography / Shin Ju-Hyeon, Choi Hak-Jong, Kim Guy-Tae et al. // Appl. phys. express. – 2013. – Vol. 6, N5. – P. 055001/1-055001/3/ – Bibliogr.: 21 ref.
9. Fabrication of size-tunable antireflective nanopillar array using hybrid nano-patterning lithography / Wu Hung-Chun, Xu XueBo, He MeiYing, et al. // Surface a. coat. technol. – 2014. – Vol. 240. – P. 413-418
10. Fabrication of sub-wavelength antireflective structures in solar cells by utilizing modified illumination and defocus techniques in optical lithography / H. L. Chen, K. T. Huang, C. H. Lin et al. // Microelectron. eng. – 2007. – Vol. 84, N 5/8. – P. 750-754.
11. Microfluidic spatial growth of vertically aligned ZnO nanostructures by soft lithography for antireflective patterning / Mehare Rupali S., Devarapalli Rami Reddy, Yenchalwar Sandeep G., Shelke Manjusha V. // Microfluid. a. nanofluid. – 2013. – Vol. 15, N 1. – P. 1-9.
12. Natural lithography nano-sphere texturing as antireflective layer on InP-based pin photodiodes / Chen Baile, Zhou Qiugui, McIntosh D. C. et al. // Electron. lett. – 2012. – Vol. 48, N 21. – P. 1340-1341. – Bibliogr.: 10 ref.
13. Understanding deviations in lithographic patterns near interfaces: Characterization of bottom anti-reflective coatings (BARC) and the BARC-resist interface / J. L. Lenhart, D. Fischer, Sambasivan Sharadha et al. // Appl. surface sci. – 2007. – Vol. 253, N9. – P. 4166-4175.
Составление полного списка литературы для Выпускной квалификационной работы бакалавра Вы можете заказать (на платной основе) в Информационно-сервисном центре РНБ (открыть ссылку) или прийти к библиографу технической литературы РНБ( Московский пр. 165, 4 этаж) на консультацию по самостоятельной работе.