Просмотр запроса №27852
Вопрос
.
Здравствуйте! Помогите, пожалуйста, найти литературу для написания литобзора по теме: "Нанолитография. Методы, кинетика, пределы."
Ответ
[2015-11-23 21:40:06] :
Здравствуйте. Предлагаем следующую литературу для работы над темой (источники – ЭК РНБ, ЭК НТЛ ВИНИТИ, ИПС Google, НЭБ eLibrary):
1. Балыкин В. И. Нанолитография методами атомной оптики / В. И. Балыкин, П. Н. Мелентьев // Рос. нанотехнологии. – 2009. – Т. 4, № 7/8. – C. 68-86.
2. Бокарев В. Контактная литография в нанотехнологии / В. Бокарев, Е. Горнев // Наноиндустрия. – 2010. – № 5. – C. 22-25.
3. Возможность применения процессов ионно-электронной эмиссии в микро- и нанолитографии / В. А. Жабрев, А. И. Мамыкин, В. И. Марголин и др. // Ориентированные фундаментальные исследования – Федеральные целевые программы, наукоемкое производство : сб. науч. тр. – М., 2007. – C. 156-159.
4. Зуев С. Ю. Лазерно-плазменный источник ЭУФ-излучения для проекционной нанолитографии / С. Ю. Зуев, А. Е. Пестов, Н. Н. Салащенко // Изв. РАН. Сер. физ. – 2013. – Т. 77, № 1. – C. 9-13.
4. Ирха В. А. Методика нанесения нанолитографического рисунка методом электронно-стимулированного осаждения / В. А. Ирха, В. Н. Лозовский // Микроэлектронные информационно-управляющие системы и комплексы : сб. ст. Всерос. науч. шк. – Новочеркасск, 2011. – C. 116-119. – Библиогр.: 3 назв.
5. Исследование режимов фотонно-стимулированной зондовой нанолитографии методом локального анодного окисления пленки титана / О. А. Агеев, Б. Г. Коноплев, В. В. Поляков и др. // Нано- и микросистем. техника. – 2008. – № 1. – C. 14-16.
6. Макаров Г. Н. Применение лазеров в нанотехнологии: получение наночастиц и наноструктур методами лазерной абляции и лазерной нанолитографии // Успехи физ. наук. – 2013. – Т. 183, № 7. – C. 673-718. – Библиогр.: 529 назв.
7. Салащнко Н. Н. Коротковолновая проекционная нанолитография / Н. Н. Салащенко, Н. И. Чхало // Вестн. РАН. – 2008. – Т. 78, № 5. – C. 450-457.
8. Сейсян Р. П. Нанолитография в микроэлектронике. Обзор. // Журн. техн. физики. – 2011. – Т. 81, № 8. – C. 1-14.
9. Сейсян Р. Нанолитография СБИС в экстремально дальнем вакуумном ультрафиолете. Обзор. // Журн. техн. физики. – 2005. – Т. 75, № 5. – C. 1-13. – Библиогр.: 20 назв.
10. Смирнов В. А. Применение зондовой нанолитографии для формирования элементов наноэлектроники методом локального анодного окисления пленки титана // Изв. ЮФУ. Техн. науки. – 2014. – № 9. – C. 15-24.
11. Стеклообразная наноструктура, изготовленная методом лазерной нанолитографии / И. И. Шишкин, К. Б. Самусоев, М. В. Рыбин и др. // Физика твердого тела. – 2012. – Т. 54, № 10. – C. 1852-1857. – Библиогр.: 36 назв.
12. Цветков Ю. Б. Микро- и нанолитография: сущность и основные этапы процесса. Модуль 4. Ч. I. // Наноинженерия. – 2013. – № 11. – C. 39-47.
13. Controlled deterministic implantation by nanostencil lithography at the limit of ion-aperture straggling / A. D. C. Alves, J. Newnham, J. A. van Donkelaar et al. // Nanotechnology. – 2013. – Vol. 24, N 14. – P. 145304.
Управляемая детерминистическая имплантация с применением ионной нанолитографии с предельным разрешением.
14. Liu Zhao-Wei. Surface plasmon interference nanolithography. / Liu Zhao-Wei, Wei Qi-Huo, Zhang Xiang. // Nano lett. – 2005. – Vol. 5, N 5. – P. 957-961.
Поверхностно-плазмонная интерференционная нанолитография.
15. Plasmonic nanolithography / W. Srituravanich, N. Fang, Sun Cheng et al. // Nano lett. – 2004. – Vol. 4, N 6. – P. 1085-1088.
Плазмонная нанолитография.
16. Weeks B. L. Effect of dissolution kinetics on feature size in dip-pen nanolithography. / B. L. Weeks, A. Noy, A. E. Miller et al. // Phys. rev. lett.. –2002. – Vol. 88, N 25, pt. 1. – P. 255505(4). – Bibliogr: 19 ref.
Влияние кинетики растворения на характерные размеры в "дип-пен"-нанолитографии.
Рекомендуем также провести самостоятельный поиск статей в архиве журнала “Российские нанотехнологии “ (открыть ссылку).
1. Балыкин В. И. Нанолитография методами атомной оптики / В. И. Балыкин, П. Н. Мелентьев // Рос. нанотехнологии. – 2009. – Т. 4, № 7/8. – C. 68-86.
2. Бокарев В. Контактная литография в нанотехнологии / В. Бокарев, Е. Горнев // Наноиндустрия. – 2010. – № 5. – C. 22-25.
3. Возможность применения процессов ионно-электронной эмиссии в микро- и нанолитографии / В. А. Жабрев, А. И. Мамыкин, В. И. Марголин и др. // Ориентированные фундаментальные исследования – Федеральные целевые программы, наукоемкое производство : сб. науч. тр. – М., 2007. – C. 156-159.
4. Зуев С. Ю. Лазерно-плазменный источник ЭУФ-излучения для проекционной нанолитографии / С. Ю. Зуев, А. Е. Пестов, Н. Н. Салащенко // Изв. РАН. Сер. физ. – 2013. – Т. 77, № 1. – C. 9-13.
4. Ирха В. А. Методика нанесения нанолитографического рисунка методом электронно-стимулированного осаждения / В. А. Ирха, В. Н. Лозовский // Микроэлектронные информационно-управляющие системы и комплексы : сб. ст. Всерос. науч. шк. – Новочеркасск, 2011. – C. 116-119. – Библиогр.: 3 назв.
5. Исследование режимов фотонно-стимулированной зондовой нанолитографии методом локального анодного окисления пленки титана / О. А. Агеев, Б. Г. Коноплев, В. В. Поляков и др. // Нано- и микросистем. техника. – 2008. – № 1. – C. 14-16.
6. Макаров Г. Н. Применение лазеров в нанотехнологии: получение наночастиц и наноструктур методами лазерной абляции и лазерной нанолитографии // Успехи физ. наук. – 2013. – Т. 183, № 7. – C. 673-718. – Библиогр.: 529 назв.
7. Салащнко Н. Н. Коротковолновая проекционная нанолитография / Н. Н. Салащенко, Н. И. Чхало // Вестн. РАН. – 2008. – Т. 78, № 5. – C. 450-457.
8. Сейсян Р. П. Нанолитография в микроэлектронике. Обзор. // Журн. техн. физики. – 2011. – Т. 81, № 8. – C. 1-14.
9. Сейсян Р. Нанолитография СБИС в экстремально дальнем вакуумном ультрафиолете. Обзор. // Журн. техн. физики. – 2005. – Т. 75, № 5. – C. 1-13. – Библиогр.: 20 назв.
10. Смирнов В. А. Применение зондовой нанолитографии для формирования элементов наноэлектроники методом локального анодного окисления пленки титана // Изв. ЮФУ. Техн. науки. – 2014. – № 9. – C. 15-24.
11. Стеклообразная наноструктура, изготовленная методом лазерной нанолитографии / И. И. Шишкин, К. Б. Самусоев, М. В. Рыбин и др. // Физика твердого тела. – 2012. – Т. 54, № 10. – C. 1852-1857. – Библиогр.: 36 назв.
12. Цветков Ю. Б. Микро- и нанолитография: сущность и основные этапы процесса. Модуль 4. Ч. I. // Наноинженерия. – 2013. – № 11. – C. 39-47.
13. Controlled deterministic implantation by nanostencil lithography at the limit of ion-aperture straggling / A. D. C. Alves, J. Newnham, J. A. van Donkelaar et al. // Nanotechnology. – 2013. – Vol. 24, N 14. – P. 145304.
Управляемая детерминистическая имплантация с применением ионной нанолитографии с предельным разрешением.
14. Liu Zhao-Wei. Surface plasmon interference nanolithography. / Liu Zhao-Wei, Wei Qi-Huo, Zhang Xiang. // Nano lett. – 2005. – Vol. 5, N 5. – P. 957-961.
Поверхностно-плазмонная интерференционная нанолитография.
15. Plasmonic nanolithography / W. Srituravanich, N. Fang, Sun Cheng et al. // Nano lett. – 2004. – Vol. 4, N 6. – P. 1085-1088.
Плазмонная нанолитография.
16. Weeks B. L. Effect of dissolution kinetics on feature size in dip-pen nanolithography. / B. L. Weeks, A. Noy, A. E. Miller et al. // Phys. rev. lett.. –2002. – Vol. 88, N 25, pt. 1. – P. 255505(4). – Bibliogr: 19 ref.
Влияние кинетики растворения на характерные размеры в "дип-пен"-нанолитографии.
Рекомендуем также провести самостоятельный поиск статей в архиве журнала “Российские нанотехнологии “ (открыть ссылку).